半导体测试设备市场现状:国产化仍不足10%
发布时间:2020-05-28 22:36:12 所属栏目:点评 来源:互联网
导读:副标题#e# 此前国家曾对于半导体设备国产化提出了明确要求:在 2020 年之前,90~32nm 工艺设备国产化率达到 50%,实现 90nm 光刻机国产化,封测关键设备国产化率达到 50%。在 2025 年之前,20~14nm 工艺设备国产化率达到 30%,实现浸没式光刻机国产化。到
下游需求旺盛叠加国产化趋势,国内晶圆代工市场景气上行,产能利用率攀升,推动代工厂积极扩产。当前国内晶圆代工厂呈现先进与成熟工艺扩产并行的状态,为国产状态发展提供了充分的空间。当前国内晶圆代工厂的扩产力量按照工艺水平可以划分三类: (编辑:PHP编程网 - 黄冈站长网) 【声明】本站内容均来自网络,其相关言论仅代表作者个人观点,不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利,请及时与联系站长删除相关内容! |